ICS 71.040.50 CCS N 33 中华人民共和国国家标准 GB/T 43748—2024 微束分析透射电子显微术集成电路芯片中功能薄膜层厚度的测定方法 Microbeam analysisTransmission electron microscopy- Method for measuring the thickness of functional thin films in integrated circuit chips 国家标准全文公开系统专用，此文本仅供个人学习、研究之用，未经授权，禁止复制、发行、汇编、翻译或网络传播等，侵权必究。全国标准信息公共服务平台：https//std.samr.gov.cn 2024-03-15发布 2024-10-01实施国家市场监督管理总局发布国家标准化管理委员会 GB/T 43748—2024 目次前言引言范围 2 规范性引用文件 3 术语和定义符号和缩略语 4 5 方法原理 6 仪器设备 7 试样试验步骤 9 测量结果的不确定度评定 10 试验报告· 附录A（资料性）SiN薄膜层厚度测量结果的不确定度评定示例参考文献 10

GB-T 43748-2024 微束分析透射电子显微术集成电路芯片中功能薄膜层厚度的测定方法

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GB-T 43748-2024 微束分析 透射电子显微术 集成电路芯片中功能薄膜层厚度的测定方法

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